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  • 1200℃滑動(dòng)雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)
    時(shí)間:2024-05-09生產(chǎn)地址:天津廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家瀏覽量:8723

    PECVD系統(tǒng)配置:1.1200度開啟式雙溫區(qū)真空管式爐2.等離子射頻電源3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)4.真空系統(tǒng)(可選配中真空或高真空)

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  • 1200℃預(yù)加熱滑動(dòng)雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)
    時(shí)間:2024-05-09生產(chǎn)地址:天津廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家瀏覽量:22278

    PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。

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  • 1200℃集成型自動(dòng)小型PECVD系統(tǒng)
    時(shí)間:2024-05-09生產(chǎn)地址:天津廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家瀏覽量:5855

    PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-4Z/G

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  • 1200度小型PECVD系統(tǒng)
    時(shí)間:2024-05-09生產(chǎn)地址:天津廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家瀏覽量:7691

    PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統(tǒng)PECVD-12IH-4Z/G

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